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新規スルホン酸誘導体化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140549869
申请日
:
2013-11-27
公开(公告)号
:
JPWO2014084269A1
公开(公告)日
:
2017-01-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07D221/14
IPC分类号
:
C09K3/00
G03F7/004
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[41]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7558440B1
,2024-09-30
[42]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja]
[P].
日本专利
:JP2025138538A
,2025-09-25
[43]
新規スルホン酸誘導体化合物及び新規ナフタル酸誘導体化合物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011087011A1
,2013-05-20
[44]
化合物、酸発生剤、重合体、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6857085B2
,2021-04-14
[45]
化合物、酸発生剤、重合体、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6916672B2
,2021-08-11
[46]
化合物、酸発生剤、重合体、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6857086B2
,2021-04-14
[47]
光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025158986A
,2025-10-17
[48]
光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025156386A
,2025-10-14
[49]
光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025146863A
,2025-10-03
[50]
光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025163073A
,2025-10-28
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