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新規スルホン酸誘導体化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140549869
申请日
:
2013-11-27
公开(公告)号
:
JPWO2014084269A1
公开(公告)日
:
2017-01-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07D221/14
IPC分类号
:
C09K3/00
G03F7/004
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
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法律状态信息
共 50 条
[21]
フルオレン系化合物、該フルオレン系化合物を含む光重合開始剤、および、該光重合開始剤を含む感光性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP5682094B2
,2015-03-11
[22]
フルオレン系化合物、該フルオレン系化合物を含む光重合開始剤、および、該光重合開始剤を含む感光性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014050738A1
,2016-08-22
[23]
重合性ホスホン酸系化合物及び接着性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7282651B2
,2023-05-29
[24]
カルボン酸チタン組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025129947A
,2025-09-05
[25]
カチオン重合開始剤および熱硬化性エポキシ樹脂組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012042796A1
,2014-02-03
[26]
カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025015500A
,2025-01-30
[27]
化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5978055B2
,2016-08-24
[28]
化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法。[ja]
[P].
日本专利
:JP5903224B2
,2016-04-13
[29]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体[ja]
[P].
日本专利
:JP6118576B2
,2017-04-19
[30]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤[ja]
[P].
日本专利
:JP5758197B2
,2015-08-05
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