化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20120173408

申请日：

2012-08-03

公开(公告)号：

JP5978055B2

公开(公告)日：

2016-08-24

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C255/65

IPC分类号：

C07C253/30 C08F4/04 G03F7/038 G03F7/039 H01L21/027

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共 50 条

[1]

化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法。[ja] [P].

日本专利 :JP5903224B2 ,2016-04-13

[2]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体[ja] [P].

日本专利 :JP6118576B2 ,2017-04-19

[3]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、重合体[ja] [P].

日本专利 :JP2025156986A ,2025-10-15

[4]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、重合体[ja] [P].

NGUYEN KHANHTIN ;

FUJINO AKINARI .

日本专利 :JP2025117411A ,2025-08-12

[5]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、連鎖移動剤及び重合体[ja] [P].

日本专利 :JP2025153294A ,2025-10-10

[6]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6455155B2 ,2019-01-23

[7]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物、ラジカル重合開始剤及び連鎖移動剤[ja] [P].

日本专利 :JP2025141163A ,2025-09-29

[8]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、共重合体及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP2025135247A ,2025-09-18

[9]

フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6036545B2 ,2016-11-30

[10]

フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6241226B2 ,2017-12-06

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