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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、重合体[ja]

被引：0
申请号：
JP20240059783
申请日：
2024-04-02
公开(公告)号：
JP2025156986A
公开(公告)日：
2025-10-15
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/039
IPC分类号：
C08F4/04 C08F8/12 C08F12/22 G03F7/20
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、重合体[ja] [P]. 
NGUYEN KHANHTIN ;
FUJINO AKINARI .
日本专利 :JP2025117411A ,2025-08-12
[2]
化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法。[ja] [P]. 
日本专利 :JP5903224B2 ,2016-04-13
[3]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体[ja] [P]. 
日本专利 :JP6118576B2 ,2017-04-19
[4]
化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5978055B2 ,2016-08-24
[5]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、連鎖移動剤及び重合体[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025153294A ,2025-10-10
[6]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物、ラジカル重合開始剤及び連鎖移動剤[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025141163A ,2025-09-29
[7]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6455155B2 ,2019-01-23
[8]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、共重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025135247A ,2025-09-18
[9]
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6036545B2 ,2016-11-30
[10]
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6241226B2 ,2017-12-06
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