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合成高分子、合成高分子の製造方法、および情報記録方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210563922
申请日
:
2020-12-04
公开(公告)号
:
JP7264276B2
公开(公告)日
:
2023-04-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08G18/08
IPC分类号
:
C08G75/045
C08G85/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[21]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7156036B2
,2022-10-19
[22]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7585836B2
,2024-11-19
[23]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019116951A1
,2020-10-22
[24]
高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017204020A1
,2019-03-22
[25]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020500974A
,2020-01-16
[26]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7113194B2
,2022-08-05
[27]
高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6991485B2
,2022-01-12
[28]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6947359B2
,2021-10-13
[29]
高分子品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012008223A1
,2013-09-05
[30]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6689076B2
,2020-04-28
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