合成高分子、合成高分子の製造方法、および情報記録方法[ja]

被引:0
申请号
JP20210563922
申请日
2020-12-04
公开(公告)号
JP7264276B2
公开(公告)日
2023-04-25
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C08G18/08
IPC分类号
C08G75/045 C08G85/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[21]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7156036B2 ,2022-10-19
[22]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7585836B2 ,2024-11-19
[23]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019116951A1 ,2020-10-22
[24]
高分子薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017204020A1 ,2019-03-22
[25]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020500974A ,2020-01-16
[26]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7113194B2 ,2022-08-05
[27]
高分子薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6991485B2 ,2022-01-12
[28]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6947359B2 ,2021-10-13
[29]
高分子品の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012008223A1 ,2013-09-05
[30]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6689076B2 ,2020-04-28