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情報記録媒体とその製造方法、およびスパッタリングターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20100536649
申请日
:
2009-10-23
公开(公告)号
:
JPWO2010052842A1
公开(公告)日
:
2012-04-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B41M5/26
IPC分类号
:
G11B7/24038
G11B7/243
G11B7/2433
G11B7/2437
G11B7/254
G11B7/257
G11B7/258
G11B7/2585
G11B7/259
G11B7/2595
G11B7/26
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
スパッタリングターゲットおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015068535A1
,2017-03-09
[2]
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005083150A1
,2008-01-17
[3]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022125041A
,2022-08-26
[4]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019176962A1
,2021-02-12
[5]
スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲットの製造方法、および、光学機能膜[ja]
[P].
日本专利
:JP2022143917A
,2022-10-03
[6]
ITOスパッタリングターゲット材およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015125588A1
,2017-03-30
[7]
ITOスパッタリングターゲット材およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5816394B1
,2015-11-18
[8]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018173517A1
,2020-01-23
[9]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017502166A
,2017-01-19
[10]
スパッタリングターゲット及び、その製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017213185A1
,2019-04-04
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