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スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20060510380
申请日
:
2005-01-26
公开(公告)号
:
JPWO2005083150A1
公开(公告)日
:
2008-01-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C04B35/486
IPC分类号
:
C04B35/488
C04B35/505
C23C14/34
G11B7/1381
G11B7/24
G11B7/254
G11B7/257
G11B7/26
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005078152A1
,2007-11-22
[2]
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005078153A1
,2007-11-22
[3]
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005121393A1
,2008-04-10
[4]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013145818A1
,2015-12-10
[5]
スパッタリングターゲット材及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017168906A1
,2019-02-07
[6]
情報記録媒体とその製造方法、およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018155070A1
,2019-12-12
[7]
情報記録媒体とその製造方法、およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010052842A1
,2012-04-05
[8]
スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006137199A1
,2009-01-08
[9]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006129410A1
,2008-12-25
[10]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066114A1
,2021-10-21
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