スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20070518868

申请日：

2006-03-17

公开(公告)号：

JPWO2006129410A1

公开(公告)日：

2008-12-25

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C04B35/453 G11B7/24 G11B7/254 G11B7/257 G11B7/26

代理机构：

代理人：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013145818A1 ,2015-12-10

[2]

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005083150A1 ,2008-01-17

[3]

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005121393A1 ,2008-04-10

[4]

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005078152A1 ,2007-11-22

[5]

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005078153A1 ,2007-11-22

[6]

スパッタリングターゲット及び非晶質性光学薄膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009147969A1 ,2011-10-27

[7]

反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008059582A1 ,2010-02-25

[8]

反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008059579A1 ,2010-02-25

[9]

反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008059580A1 ,2010-02-25

[10]

反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008059581A1 ,2010-02-25

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