スパッタリングターゲット及び非晶質性光学薄膜[ja]

被引：0

申请号：

JP20100515834

申请日：

2009-05-26

公开(公告)号：

JPWO2009147969A1

公开(公告)日：

2011-10-27

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C04B35/00

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6557750B1 ,2019-08-07

[2]

スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja] [P].

日本专利 :JP2025167930A ,2025-11-07

[3]

スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja] [P].

日本专利 :JP2025167932A ,2025-11-07

[4]

スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja] [P].

日本专利 :JP7483999B1 ,2024-05-15

[5]

スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja] [P].

日本专利 :JP2025167926A ,2025-11-07

[6]

スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja] [P].

日本专利 :JP2025167928A ,2025-11-07

[7]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

HANAWA YUICHIRO ;

KIMURA KENJI ;

ARAKAWA RYUICHI ;

ITO SHINSUKE ;

KASASHIMA TAKASHI ;

YAMAZAKI MASATO .

日本专利 :JP2024007613A ,2024-01-19

[8]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP5808513B1 ,2015-11-10

[9]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015170534A1 ,2017-04-20

[10]

スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020066114A1 ,2021-10-21

← 1 2 3 4 5 →