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反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体[ja]
被引:0
申请号
:
JP20080544041
申请日
:
2006-11-17
公开(公告)号
:
JPWO2008059579A1
公开(公告)日
:
2010-02-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
G02B5/08
G11B7/24038
G11B7/258
G11B7/259
G11B7/26
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008059581A1
,2010-02-25
[2]
反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008059582A1
,2010-02-25
[3]
反射膜又は半透過反射膜用の薄膜及びスパッタリングターゲット並びに光記録媒体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008059580A1
,2010-02-25
[4]
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005078152A1
,2007-11-22
[5]
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005078153A1
,2007-11-22
[6]
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005083150A1
,2008-01-17
[7]
スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006137199A1
,2009-01-08
[8]
酸化物スパッタリングターゲット及び光記録媒体用保護膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5896121B2
,2016-03-30
[9]
スパッタリングターゲット及び磁性膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020031461A1
,2021-08-26
[10]
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005121393A1
,2008-04-10
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