Ｃｕ−Ｇａ合金焼結体スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法、Ｃｕ−Ｇａ合金焼結体ターゲットから作製された光吸収層及び同光吸収層を用いたＣＩＧＳ系太陽電池[ja]

被引：0

申请号：

JP20100535149

申请日：

2010-06-29

公开(公告)号：

JPWO2011010529A1

公开(公告)日：

2012-12-27

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

B22F1/00 B22F3/14 B22F9/08 C22C9/00 C22C28/00 H01L31/04

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

Ｃｕ−Ｇａ焼結体スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011013471A1 ,2013-01-07

[2]

Ｃｕ−Ｇａターゲット及びその製造方法並びにＣｕ−Ｇａ系合金膜からなる光吸収層及び同光吸収層を用いたＣＩＧＳ系太陽電池[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012098722A1 ,2014-06-09

[3]

Ｃｕ−Ｇａ合金粉末及びＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP5740988B2 ,2015-07-01

[4]

Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5743119B1 ,2015-07-01

[5]

Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットの製造方法及びＣｕ−Ｇａ合金粉末の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5630416B2 ,2014-11-26

[6]

Ｃｕ−Ｇａターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011001974A1 ,2012-12-13

[7]

Ｓｂ−Ｔｅ系合金焼結体スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006059429A1 ,2008-08-07

[8]

光吸収層を製造するためのスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP2019529705A ,2019-10-17

[9]

磁性材ターゲット用白金粉末、同粉末の製造方法、白金焼結体からなる磁性材ターゲットの製造方法及び同焼結磁性材ターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009119196A1 ,2011-07-21

[10]

Ｓｂ−Ｔｅ基合金焼結体スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015146394A1 ,2017-04-13

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