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光吸収層を製造するためのスパッタリングターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190513769
申请日
:
2017-09-06
公开(公告)号
:
JP2019529705A
公开(公告)日
:
2019-10-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C01G19/02
C01G23/00
C01G33/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化モリブデン含有層を製造するためのスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP2022526165A
,2022-05-23
[2]
酸化モリブデン含有層を製造するためのスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP2022526163A
,2022-05-23
[3]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066114A1
,2021-10-21
[4]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022125041A
,2022-08-26
[5]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020261748A1
,2021-09-13
[6]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019176962A1
,2021-02-12
[7]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6557750B1
,2019-08-07
[8]
スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017115648A1
,2017-12-28
[9]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6996019B1
,2022-01-17
[10]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022165884A
,2022-11-01
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