強磁性材スパッタリングターゲット[ja]

被引：0

申请号：

JP20130526216

申请日：

2013-01-21

公开(公告)号：

JPWO2013111706A1

公开(公告)日：

2015-05-11

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

G11B5/851

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法律状态信息

共 50 条

[1]

強磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017170138A1 ,2019-01-31

[2]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6557750B1 ,2019-08-07

[3]

Ｆｅ−Ｐｔ系強磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012029498A1 ,2013-10-28

[4]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

HANAWA YUICHIRO ;

KIMURA KENJI ;

ARAKAWA RYUICHI ;

ITO SHINSUKE ;

KASASHIMA TAKASHI ;

YAMAZAKI MASATO .

日本专利 :JP2024007613A ,2024-01-19

[5]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP5808513B1 ,2015-11-10

[6]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP2022165896A ,2022-11-01

[7]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015170534A1 ,2017-04-20

[8]

磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014185266A1 ,2017-02-23

[9]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6996019B1 ,2022-01-17

[10]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022165884A ,2022-11-01

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