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レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180509091
申请日
:
2017-03-21
公开(公告)号
:
JP6738050B2
公开(公告)日
:
2020-08-12
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/40
IPC分类号
:
G03F7/20
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017169981A1
,2019-02-07
[2]
レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018074358A1
,2019-08-22
[3]
レジストパターンコーティング剤およびレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010061833A1
,2012-04-26
[4]
パターン印刷用レジスト組成物及びそれを用いた回路パターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019230357A1
,2021-07-08
[5]
パターン印刷用レジスト組成物及びそれを用いた回路パターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019244651A1
,2021-07-08
[6]
パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015146524A1
,2017-04-13
[7]
レジスト下層膜を適用したパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015030060A1
,2017-03-02
[8]
ソルダーレジストパターンの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012043201A1
,2014-02-06
[9]
硬化皮膜パターン形成用組成物及びそれを用いた硬化皮膜パターン作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008099732A1
,2010-05-27
[10]
上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011118644A1
,2013-07-04
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