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パターン印刷用レジスト組成物及びそれを用いた回路パターンの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200521831
申请日
:
2019-05-13
公开(公告)号
:
JPWO2019230357A1
公开(公告)日
:
2021-07-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05K3/06
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
パターン印刷用レジスト組成物及びそれを用いた回路パターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019244651A1
,2021-07-08
[2]
硬化皮膜パターン形成用組成物及びそれを用いた硬化皮膜パターン作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008099732A1
,2010-05-27
[3]
レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017169981A1
,2019-02-07
[4]
レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6738050B2
,2020-08-12
[5]
レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018074358A1
,2019-08-22
[6]
上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011118644A1
,2013-07-04
[7]
レジストパターンコーティング剤およびレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010061833A1
,2012-04-26
[8]
セパレータインサート、セパレータ及びセパレータインサートの交換方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024533062A
,2024-09-12
[9]
化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020503549A
,2020-01-30
[10]
パターン反転膜形成用組成物及び反転パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010123032A1
,2012-10-25
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