学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180546295
申请日
:
2017-10-13
公开(公告)号
:
JPWO2018074358A1
公开(公告)日
:
2019-08-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/32
IPC分类号
:
G03F7/40
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017169981A1
,2019-02-07
[2]
レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6738050B2
,2020-08-12
[3]
レジストパターン被覆用塗布液及びパターンの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016158507A1
,2018-01-25
[4]
微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018537703A
,2018-12-20
[5]
レジストパターンコーティング剤およびレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010061833A1
,2012-04-26
[6]
パターン印刷用レジスト組成物及びそれを用いた回路パターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019230357A1
,2021-07-08
[7]
パターン印刷用レジスト組成物及びそれを用いた回路パターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019244651A1
,2021-07-08
[8]
レジスト材料及びパターン形成方法[ja]
[P].
HATAKEYAMA JUN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
HATAKEYAMA JUN
;
FUJIWARA NORIYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
FUJIWARA NORIYUKI
.
日本专利
:JP2025066059A
,2025-04-22
[9]
レジスト材料及びパターン形成方法[ja]
[P].
HATAKEYAMA JUN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHIN ETSU CHEM CO LTD
SHIN ETSU CHEM CO LTD
HATAKEYAMA JUN
;
FUJIWARA NORIYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHIN ETSU CHEM CO LTD
SHIN ETSU CHEM CO LTD
FUJIWARA NORIYUKI
.
日本专利
:JP2025066060A
,2025-04-22
[10]
レジスト材料及びパターン形成方法[ja]
[P].
HATAKEYAMA JUN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
HATAKEYAMA JUN
;
FUJIWARA NORIYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
FUJIWARA NORIYUKI
.
日本专利
:JP2025066061A
,2025-04-22
←
1
2
3
4
5
→