レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法[ja]

被引:0
申请号
JP20180546295
申请日
2017-10-13
公开(公告)号
JPWO2018074358A1
公开(公告)日
2019-08-22
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F7/32
IPC分类号
G03F7/40 H01L21/027
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[8]
レジスト材料及びパターン形成方法[ja] [P]. 
HATAKEYAMA JUN ;
FUJIWARA NORIYUKI .
日本专利 :JP2025066059A ,2025-04-22
[9]
レジスト材料及びパターン形成方法[ja] [P]. 
HATAKEYAMA JUN ;
FUJIWARA NORIYUKI .
日本专利 :JP2025066060A ,2025-04-22
[10]
レジスト材料及びパターン形成方法[ja] [P]. 
HATAKEYAMA JUN ;
FUJIWARA NORIYUKI .
日本专利 :JP2025066061A ,2025-04-22