パターン高さ測定装置及びパターン高さ測定方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20140184941

申请日：

2014-09-11

公开(公告)号：

JP6356551B2

公开(公告)日：

2018-07-11

发明(设计)人：

申请人：

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IPC主分类号：

G01B15/00

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法律状态信息

共 50 条

[1]

パターン測定装置及びパターン測定方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010073360A1 ,2012-05-31

[2]

パターン測定方法、及びパターン測定装置[ja] [P].

日本专利 :JP6427571B2 ,2018-11-21

[3]

パターン測定方法及びパターン測定装置[ja] [P].

日本专利 :JP5642108B2 ,2014-12-17

[4]

パターン測定方法、及びパターン測定装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016002341A1 ,2017-06-01

[5]

パターンの測定方法、及びパターン測定装置[ja] [P].

日本专利 :JP6002486B2 ,2016-10-05

[6]

パターン測定装置およびパターン測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6127458B2 ,2017-05-17

[7]

パターン測定方法およびパターン測定装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025144774A ,2025-10-03

[8]

パターン測定装置、パターン測定用プログラム、及び、パターン測定方法[ja] [P].

HIGUCHI SEIJI ;

OGAKI RYOSUKE ;

UEDA TAKAYUKI .

日本专利 :JP2025059825A ,2025-04-10

[9]

パターン寸法測定装置及びパターン面積測定方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008032488A1 ,2010-01-21

[10]

パターン寸法測定方法及びパターン寸法測定装置[ja] [P].

日本专利 :JP5733012B2 ,2015-06-10

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