半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置[ja]

被引:0
申请号
JP20190080975
申请日
2019-04-22
公开(公告)号
JP7231826B2
公开(公告)日
2023-03-02
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/338
IPC分类号
H01L21/205 H01L21/336 H01L29/778 H01L29/78 H01L29/812
代理机构
代理人
法律状态
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共 50 条
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半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置[ja] [P]. 
KURAHASHI NAOKO .
日本专利 :JP2024175739A ,2024-12-19
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