半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置[ja]

被引:0
申请号
JP20180227752
申请日
2018-12-05
公开(公告)号
JP7239808B2
公开(公告)日
2023-03-15
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H10B53/30
IPC分类号
H01L21/768 H01L23/532 H10B53/10
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
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半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置[ja] [P]. 
KURAHASHI NAOKO .
日本专利 :JP2024175739A ,2024-12-19
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