水素拡散係数の非破壊測定のための装置および方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20190558490

申请日：

2018-04-25

公开(公告)号：

JP2020517963A

公开(公告)日：

2020-06-18

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G01N17/02

IPC分类号：

G01N27/416 G01N33/2045

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共 50 条

[1]

水素拡散係数の非破壊測定のための装置および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020517948A ,2020-06-18

[2]

拡散はんだ付けのための無鉛はんだ膜及びその製造のための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020520807A ,2020-07-16

[3]

バリア性能の向上およびビア抵抗の低減のための方法および材料[ja] [P].

日本专利 :JP2023545224A ,2023-10-27

[4]

重ねレーザ溶接のための装置および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018505059A ,2018-02-22

[5]

金属表面のための低摩擦係数のコーティング[ja] [P].

日本专利 :JP5689262B2 ,2015-03-25

[6]

低温窒化ケイ素膜のための方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP2020504457A ,2020-02-06

[7]

粗さのある表面による核酸の迅速な単離のための方法および試験キット[ja] [P].

日本专利 :JP2018520696A ,2018-08-02

[8]

金属表面を除染するための方法および装置[ja] [P].

日本专利 :JP5717638B2 ,2015-05-13

[9]

基材物品および装置の特性および性能を増強するためのコーティング[ja] [P].

BRYAN C HENDRIX ;

DAVID W PETERS ;

LI WEIMIN ;

CARLO WALDFRIED ;

RICHARD A COOKE ;

NILESH GUNDA ;

LIN I-KUAN .

日本专利 :JP2024147635A ,2024-10-16

[10]

金属表面予備処理のための被覆組成物、その製造およびその使用[ja] [P].

日本专利 :JP6318248B2 ,2018-04-25

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