スパッタリングターゲット、酸化物半導体薄膜、薄膜トランジスタおよび電子機器[ja]

被引:0
申请号
JP20190534556
申请日
2018-08-01
公开(公告)号
JP7075934B2
公开(公告)日
2022-05-26
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
C04B35/01 C04B35/453 C23C14/08 H01L21/336 H01L21/363 H01L29/786
代理机构
代理人
法律状态
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