磁性体薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja]

被引：0

申请号：

JP20170500665

申请日：

2016-02-15

公开(公告)号：

JPWO2016133047A1

公开(公告)日：

2017-11-09

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

B22F1/12 G11B5/851

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法律状态信息

共 50 条

[1]

磁性体薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016013334A1 ,2017-04-27

[2]

磁性体薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6359662B2 ,2018-07-18

[3]

磁性体薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6445126B2 ,2018-12-26

[4]

磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014185266A1 ,2017-02-23

[5]

スパッタリング用ターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005024091A1 ,2006-11-02

[6]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6557750B1 ,2019-08-07

[7]

強磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012029331A1 ,2013-10-28

[8]

強磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013111706A1 ,2015-05-11

[9]

強磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017170138A1 ,2019-01-31

[10]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

HANAWA YUICHIRO ;

KIMURA KENJI ;

ARAKAWA RYUICHI ;

ITO SHINSUKE ;

KASASHIMA TAKASHI ;

YAMAZAKI MASATO .

日本专利 :JP2024007613A ,2024-01-19

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