半導体装置の製造方法および半導体装置[ja]

被引:0
申请号
JP20160507433
申请日
2015-02-24
公开(公告)号
JPWO2015137109A1
公开(公告)日
2017-04-06
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L23/40
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
半導体装置および半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016121159A1 ,2017-04-27
[2]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015141384A1 ,2017-04-06
[3]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014045766A1 ,2016-08-18
[4]
半導体装置、及び、半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
NAKANO HAYATO .
日本专利 :JP2024048689A ,2024-04-09
[5]
半導体装置、電力変換装置、および半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
NAKADA YOSUKE ;
SATO YUJI ;
YOSHIDA KENTARO ;
HAYASHI KEI .
日本专利 :JP2024179082A ,2024-12-26
[8]
半導体装置の製造装置及び製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004086476A1 ,2006-06-29
[9]
半導体装置および半導体装置用冷却器[ja] [P]. 
日本专利 :JP5900610B2 ,2016-04-06
[10]
半導体装置および半導体装置用冷却器[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013157467A1 ,2015-12-21