高純度Ｒｕ合金ターゲット及びその製造方法並びにスパッタ膜[ja]

被引：0

申请号：

JP20070539818

申请日：

2006-06-19

公开(公告)号：

JPWO2007043215A1

公开(公告)日：

2009-04-16

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

B22F1/00 C22B9/22 C22C5/04 C22F1/14 C23C14/14 H01L21/285

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

高純度銅又は高純度銅合金スパッタリングターゲット、同スパッタリングターゲットの製造方法及び高純度銅又は高純度銅合金スパッタ膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010038642A1 ,2012-03-01

[2]

高純度Ｒｕ粉末、該高純度Ｒｕ粉末を焼結して得るスパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングして得た薄膜並びに高純度Ｒｕ粉末の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005083136A1 ,2008-04-24

[3]

スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018173517A1 ,2020-01-23

[4]

スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017502166A ,2017-01-19

[5]

スパッタリングターゲット及び、その製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017213185A1 ,2019-04-04

[6]

スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013145818A1 ,2015-12-10

[7]

銅合金スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016186070A1 ,2018-03-08

[8]

高純度チタンインゴット、その製造方法及びチタンスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013122069A1 ,2015-05-11

[9]

スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022125041A ,2022-08-26

[10]

スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019176962A1 ,2021-02-12

← 1 2 3 4 5 →