高純度チタンインゴット、その製造方法及びチタンスパッタリングターゲット[ja]

被引:0
申请号
JP20130558701
申请日
2013-02-13
公开(公告)号
JPWO2013122069A1
公开(公告)日
2015-05-11
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B22D21/06
IPC分类号
B22D27/20 C22B9/20 C22B9/22 C22B34/12 C22C14/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[7]
高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013038962A1 ,2015-03-26
[9]
スパッタリングターゲット及び、その製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017213185A1 ,2019-04-04
[10]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017502166A ,2017-01-19