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高純度チタンインゴット、その製造方法及びチタンスパッタリングターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130558701
申请日
:
2013-02-13
公开(公告)号
:
JPWO2013122069A1
公开(公告)日
:
2015-05-11
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B22D21/06
IPC分类号
:
B22D27/20
C22B9/20
C22B9/22
C22B34/12
C22C14/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022125041A
,2022-08-26
[2]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5812217B1
,2015-11-11
[3]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019176962A1
,2021-02-12
[4]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6557750B1
,2019-08-07
[5]
スパッタリングターゲット用母合金及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016052371A1
,2017-06-08
[6]
スポンジチタン及びスポンジチタンの製造方法並びにチタンインゴット又はチタン合金インゴットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018179993A1
,2019-04-04
[7]
高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013038962A1
,2015-03-26
[8]
スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲットの製造方法、および、光学機能膜[ja]
[P].
日本专利
:JP2022143917A
,2022-10-03
[9]
スパッタリングターゲット及び、その製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017213185A1
,2019-04-04
[10]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017502166A
,2017-01-19
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