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スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150056107
申请日
:
2015-03-19
公开(公告)号
:
JP5812217B1
公开(公告)日
:
2015-11-11
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲットの製造方法、および、光学機能膜[ja]
[P].
日本专利
:JP2022143917A
,2022-10-03
[2]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
MATSUBARA YOSHIAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SANYO SPECIAL STEEL CO LTD
SANYO SPECIAL STEEL CO LTD
MATSUBARA YOSHIAKI
.
日本专利
:JP2024030381A
,2024-03-07
[3]
スパッタリング用ターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005024091A1
,2006-11-02
[4]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066956A1
,2021-09-24
[5]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066957A1
,2021-09-24
[6]
酸化物材料、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007034749A1
,2009-03-26
[7]
FePt系スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013105648A1
,2015-05-11
[8]
高純度チタンインゴット、その製造方法及びチタンスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013122069A1
,2015-05-11
[9]
薄膜トランジスタの製造方法、スパッタリングターゲットおよび焼結体[ja]
[P].
OCHI MOTOTAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KOBELCO KAKEN KK
KOBELCO KAKEN KK
OCHI MOTOTAKA
.
日本专利
:JP2024154366A
,2024-10-30
[10]
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6364561B1
,2018-07-25
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