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FePt系スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130514451
申请日
:
2013-01-11
公开(公告)号
:
JPWO2013105648A1
公开(公告)日
:
2015-05-11
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
B22F3/14
C22C1/05
C22C5/04
C23C14/06
G11B5/64
G11B5/851
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
FePt系スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013105647A1
,2015-05-11
[2]
FePt−C系スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014132746A1
,2017-02-02
[3]
FePt−C系スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017154741A1
,2018-10-04
[4]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013145818A1
,2015-12-10
[5]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5812217B1
,2015-11-11
[6]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066114A1
,2021-10-21
[7]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022125041A
,2022-08-26
[8]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019220675A1
,2021-07-15
[9]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020261748A1
,2021-09-13
[10]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019176962A1
,2021-02-12
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