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磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180558973
申请日
:
2017-12-07
公开(公告)号
:
JPWO2018123500A1
公开(公告)日
:
2019-03-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
G11B5/851
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016140113A1
,2017-06-29
[2]
磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013125469A1
,2015-07-30
[3]
磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013136962A1
,2015-08-03
[4]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6996019B1
,2022-01-17
[5]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022165884A
,2022-11-01
[6]
強磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012081363A1
,2014-05-22
[7]
スパッタリングターゲット材及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017168906A1
,2019-02-07
[8]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066114A1
,2021-10-21
[9]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020261748A1
,2021-09-13
[10]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6557750B1
,2019-08-07
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