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酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及び酸化物半導体膜[ja]
被引：0
申请号：
JP20170545433
申请日：
2017-04-26
公开(公告)号：
JPWO2017188299A1
公开(公告)日：
2018-05-10
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C04B35/01
IPC分类号：
C23C14/08
C23C14/34
H01L21/363
H01L29/786
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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