ルテニウム合金スパッタリングターゲット[ja]

被引：0

申请号：

JP20070521222

申请日：

2006-05-16

公开(公告)号：

JPWO2006134743A1

公开(公告)日：

2009-01-08

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C22C5/04

IPC分类号：

C23C14/34

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

ルテニウムスパッタリングターゲット及びルテニウム合金スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014021139A1 ,2016-07-21

[2]

ニッケル合金スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6791313B1 ,2020-11-25

[3]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6557750B1 ,2019-08-07

[4]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP5808513B1 ,2015-11-10

[5]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015170534A1 ,2017-04-20

[6]

銅−ガリウムスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP2017500438A ,2017-01-05

[7]

酸化タングステンスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP2022157002A ,2022-10-14

[8]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

HANAWA YUICHIRO ;

KIMURA KENJI ;

ARAKAWA RYUICHI ;

ITO SHINSUKE ;

KASASHIMA TAKASHI ;

YAMAZAKI MASATO .

日本专利 :JP2024007613A ,2024-01-19

[9]

スパッタリングターゲット材[ja] [P].

日本专利 :JP2022165896A ,2022-11-01

[10]

スパッタリング用ターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005024091A1 ,2006-11-02

← 1 2 3 4 5 →