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ニッケル合金スパッタリングターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190130518
申请日
:
2019-07-12
公开(公告)号
:
JP6791313B1
公开(公告)日
:
2020-11-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C22C19/03
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ニッケル合金スパッタリングターゲット及びニッケル合金薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005041290A1
,2008-06-12
[2]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6557750B1
,2019-08-07
[3]
ルテニウムスパッタリングターゲット及びルテニウム合金スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014021139A1
,2016-07-21
[4]
ルテニウム合金スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006134743A1
,2009-01-08
[5]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP5808513B1
,2015-11-10
[6]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP7205999B1
,2023-01-17
[7]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015170534A1
,2017-04-20
[8]
ニッケル合金スパッタリングターゲット、Ni合金薄膜及びニッケルシリサイド膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011115259A1
,2013-07-04
[9]
スパッタリングターゲット、ターゲット製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017051820A1
,2017-09-21
[10]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022125041A
,2022-08-26
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