Cu−Ga系合金ターゲットの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20120197680
申请日
2012-09-07
公开(公告)号
JP6088768B2
公开(公告)日
2017-03-01
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
B22D18/02 B22D21/00 B22D27/11 C22C9/00 C22C28/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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