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静電チャック装置及び基板の吸着状態判別方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20100527756
申请日
:
2009-08-26
公开(公告)号
:
JPWO2010026893A1
公开(公告)日
:
2012-02-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/683
IPC分类号
:
H02N13/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 43 条
[1]
静電チャック及び静電チャック用の電極シート[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007007674A1
,2009-01-29
[2]
静電チャック装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025011772A
,2025-01-24
[3]
静電チャック[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010032703A1
,2012-02-09
[4]
静電チャックの給電構造及びその製造方法並びに静電チャック給電構造の再生方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008035395A1
,2010-01-28
[5]
静電チャック装置におけるガス供給構造の製造方法及び静電チャック装置ガス供給構造並びに静電チャック装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009031566A1
,2010-12-16
[6]
基台、静電チャック装置及び基台の製造方法[ja]
[P].
NAKAZAWA YUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD
SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD
NAKAZAWA YUYA
;
HARADA KENJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD
SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD
HARADA KENJI
.
日本专利
:JP2025111072A
,2025-07-30
[7]
圧電ユニット及びアクチュエータ装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022176065A
,2022-11-25
[8]
セラミックス回路基板の製造方法及びセラミックス回路基板[ja]
[P].
日本专利
:JP5720861B1
,2015-05-20
[9]
セラミックス回路基板の製造方法及びセラミックス回路基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015022748A1
,2017-03-02
[10]
電子基板筐体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022094785A
,2022-06-27
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