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PVDルテニウムを使用した方法及び装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190517908
申请日
:
2017-10-02
公开(公告)号
:
JP2019530981A
公开(公告)日
:
2019-10-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/285
IPC分类号
:
C23C14/14
C23C14/34
C23C14/58
H01L21/28
H01L29/423
H01L29/49
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
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共 50 条
[1]
ルテニウムまたはルテニウム化合物を含有する被毒した触媒を再生する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020520797A
,2020-07-16
[2]
アルミニウム化合物及びこれを使用したアルミニウム含有膜の形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7401928B2
,2023-12-20
[3]
アルミニウム化合物及びこれを使用したアルミニウム含有膜の形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021533104A
,2021-12-02
[4]
有機ルテニウム錯体及び当該ルテニウム錯体を用いたルテニウム薄膜の製造法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008013244A1
,2009-12-17
[5]
熱的に安定したルテニウム前駆体組成物及びルテニウム含有膜の形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023545734A
,2023-10-31
[6]
ルテニウム触媒を用いた重水素化方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009005069A1
,2010-08-26
[7]
ルテニウム錯体を用いた還元方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018135506A1
,2019-11-07
[8]
ルテニウム膜形成用材料及びルテニウム膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011052453A1
,2013-03-21
[9]
ルテニウム膜形成用材料及びルテニウム膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011065221A1
,2013-04-11
[10]
ルテニウム膜形成用材料及びルテニウム膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011099467A1
,2013-06-13
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