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スパッタリング装置及びＩｎ金属酸化物膜の形成方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20120540861
申请日：
2011-10-25
公开(公告)号：
JPWO2012057108A1
公开(公告)日：
2014-05-12
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C23C14/34
IPC分类号：
C23C14/58
H01L33/42
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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