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スパッタリング方法及びスパッタリング装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220100059
申请日
:
2022-06-22
公开(公告)号
:
JP2024001428A
公开(公告)日
:
2024-01-10
发明(设计)人
:
MIURA TOSHINORI
HANAKURA MITSURU
申请人
:
MEIDEN NANOPROCESS INNOVATIONS INC
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6557750B1
,2019-08-07
[2]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja]
[P].
日本专利
:JP2025167930A
,2025-11-07
[3]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja]
[P].
日本专利
:JP2025167932A
,2025-11-07
[4]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja]
[P].
日本专利
:JP7483999B1
,2024-05-15
[5]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja]
[P].
日本专利
:JP2025167926A
,2025-11-07
[6]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品[ja]
[P].
日本专利
:JP2025167928A
,2025-11-07
[7]
酸化タングステンスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP2022157002A
,2022-10-14
[8]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066114A1
,2021-10-21
[9]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020261748A1
,2021-09-13
[10]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6996019B1
,2022-01-17
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