酸化物層付き基体とその製造方法[ja]

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申请号
JP20100511962
申请日
2009-05-08
公开(公告)号
JPWO2009139337A1
公开(公告)日
2011-09-22
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01B13/00
IPC分类号
B23K26/00 B23K26/36 H01B5/14 H01J9/02 H01J11/02
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
多層膜付き基板とその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004038061A1 ,2006-02-23
[2]
透明導電性酸化物膜付き基体の製造方法[ja] [P]. 
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[6]
酸化物積層体及びその製造方法[ja] [P]. 
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[7]
酸化物積層体及びその製造方法[ja] [P]. 
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[9]
金属酸化物含有層の製造方法[ja] [P]. 
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[10]
酸化物超電導薄膜とその製造方法[ja] [P]. 
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