透明導電性酸化物膜付き基体の製造方法[ja]

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申请号
JP20130521642
申请日
2012-06-22
公开(公告)号
JPWO2012176899A1
公开(公告)日
2015-02-23
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L31/04
IPC分类号
C23C16/54 H01B13/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[3]
酸化物層付き基体とその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009139337A1 ,2011-09-22
[4]
酸化物超電導膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5658891B2 ,2015-01-28
[5]
金属酸化物透明導電膜及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6841149B2 ,2021-03-10
[6]
透明導電膜付き基板[ja] [P]. 
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[7]
透明導電膜製造用の酸化物焼結体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010035715A1 ,2012-02-23
[8]
透明導電膜製造用の酸化物焼結体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010035716A1 ,2012-02-23
[9]
複合酸化物透明導電膜及び透明導電膜付基材[ja] [P]. 
日本专利 :JP6946770B2 ,2021-10-06
[10]
透明導電膜および透明導電膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009031399A1 ,2010-12-09