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反射層、反射層を備えた光学記録媒体及び反射層形成用スパッタリングターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20020525654
申请日
:
2001-08-30
公开(公告)号
:
JPWO2002021524A1
公开(公告)日
:
2004-07-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G11B7/24
IPC分类号
:
C22C9/00
C23C14/06
C23C14/14
C23C14/34
G11B7/243
G11B7/258
G11B7/259
G11B7/26
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 6 条
[1]
スパッタリングターゲット、ターゲット製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017051820A1
,2017-09-21
[2]
ニッケル合金スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6791313B1
,2020-11-25
[3]
ニッケル合金スパッタリングターゲット及びニッケル合金薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005041290A1
,2008-06-12
[4]
電子部品用薄膜配線および薄膜配線形成用スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009119804A1
,2011-07-28
[5]
ニッケル合金スパッタリングターゲット、Ni合金薄膜及びニッケルシリサイド膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011115259A1
,2013-07-04
[6]
チタン−ニッケル合金薄膜、及び同時スパッタリング法を用いたチタン−ニッケル合金薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015509134A
,2015-03-26
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