酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット[ja]

被引：0

申请号：

JP20170502320

申请日：

2016-02-19

公开(公告)号：

JPWO2016136611A1

公开(公告)日：

2017-06-01

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C04B35/01

IPC分类号：

C04B35/453 C23C14/34

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6285076B2 ,2018-02-28

[2]

酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016152349A1 ,2017-07-13

[3]

酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015146252A1 ,2017-04-13

[4]

酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6293359B2 ,2018-03-14

[5]

酸化物焼結体及び該酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP5884001B1 ,2016-03-15

[6]

酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja] [P].

日本专利 :JP6023920B1 ,2016-11-09

[7]

酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016136855A1 ,2017-04-27

[8]

酸化物焼結体、同焼結体からなるスパッタリングターゲット、同焼結体の製造方法及び同焼結体スパッタリングターゲットゲートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010004862A1 ,2011-12-22

[9]

酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja] [P].

日本专利 :JP5735190B1 ,2015-06-17

[10]

酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010032422A1 ,2012-02-02

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