スパッタリングターゲット用酸化クロム粉末及びスパッタリングターゲット[ja]

被引:0
申请号
JP20070521131
申请日
2006-03-10
公开(公告)号
JPWO2006134694A1
公开(公告)日
2009-01-08
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
C01G37/02 C04B35/12
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[4]
スパッタリングターゲット材[ja] [P]. 
日本专利 :JP5808513B1 ,2015-11-10
[5]
スパッタリングターゲット材[ja] [P]. 
日本专利 :JP7205999B1 ,2023-01-17
[6]
スパッタリングターゲット材[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015170534A1 ,2017-04-20
[7]
磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011070860A1 ,2013-04-22
[8]
ITOスパッタリングターゲット材[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016174877A1 ,2018-02-22
[9]
銅−ガリウムスパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017500438A ,2017-01-05
[10]
貴金属スパッタリングターゲット材[ja] [P]. 
日本专利 :JP6810824B1 ,2021-01-06