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スパッタリングターゲット用酸化クロム粉末及びスパッタリングターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20070521131
申请日
:
2006-03-10
公开(公告)号
:
JPWO2006134694A1
公开(公告)日
:
2009-01-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C01G37/02
C04B35/12
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6557750B1
,2019-08-07
[2]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022125041A
,2022-08-26
[3]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019176962A1
,2021-02-12
[4]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP5808513B1
,2015-11-10
[5]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP7205999B1
,2023-01-17
[6]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015170534A1
,2017-04-20
[7]
磁性材スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011070860A1
,2013-04-22
[8]
ITOスパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016174877A1
,2018-02-22
[9]
銅−ガリウムスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP2017500438A
,2017-01-05
[10]
貴金属スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP6810824B1
,2021-01-06
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