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空隙配置構造体およびそれを用いた測定方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150508278
申请日
:
2014-03-13
公开(公告)号
:
JP5991426B2
公开(公告)日
:
2016-09-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01N21/01
IPC分类号
:
G01N21/3586
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
空隙配置構造体およびそれを用いた測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5967201B2
,2016-08-10
[2]
空隙配置構造体およびそれを用いた測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014156670A1
,2017-02-16
[3]
空隙配置構造体およびそれを用いた測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014017266A1
,2016-07-07
[4]
測定構造体、その製造方法、および、それを用いた測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012132111A1
,2014-07-24
[5]
被測定物の特性を測定する方法、それに用いられる空隙配置構造体および測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011142155A1
,2013-07-22
[6]
空隙配置構造体及び測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014132714A1
,2017-02-02
[7]
光学式測定器およびそれを用いた測定方法[ja]
[P].
KANAI KENJIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO SEIMITSU CO LTD
KANAI KENJIRO
.
日本专利
:JP2022079608A
,2022-05-26
[8]
光学式測定器およびそれを用いた測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7259112B2
,2023-04-17
[9]
光学式測定器およびそれを用いた測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7611287B2
,2025-01-09
[10]
光学式測定器およびそれを用いた測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7051533B2
,2022-04-11
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