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光活性化エッチングペーストおよびその使用[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150515406
申请日
:
2013-05-07
公开(公告)号
:
JP2015526880A
公开(公告)日
:
2015-09-10
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/306
IPC分类号
:
C09D11/037
C09D11/322
C09D11/52
C09K13/04
H01L31/0224
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
エッチング方法およびエッチング装置[ja]
[P].
TAKEYA KOJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
TAKEYA KOJI
;
KANEKI TOSHIKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KANEKI TOSHIKI
;
KAWAGUCHI TSUBASA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KAWAGUCHI TSUBASA
.
日本专利
:JP2024044428A
,2024-04-02
[2]
光活性化陽イオンチャネルおよびその使用[ja]
[P].
日本专利
:JP6118042B2
,2017-04-19
[3]
光活性化陽イオンチャネルおよびその使用[ja]
[P].
日本专利
:JP6312635B2
,2018-04-18
[4]
エッチング剤、エッチング方法およびエッチング剤調製液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015002272A1
,2017-02-23
[5]
スパッタターゲットおよびその使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2015502452A
,2015-01-22
[6]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011040484A1
,2013-02-28
[7]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009136558A1
,2011-09-08
[8]
エッチング方法、エッチング残渣の除去方法、および記憶媒体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066172A1
,2021-08-30
[9]
スイッチング素子およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009078251A1
,2011-04-28
[10]
亜鉛とスズを含む酸化物のエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015104962A1
,2017-03-23
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