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用于带电粒子束装置的透镜、带电粒子束装置以及聚焦带电粒子束的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311809425.2
申请日
:
2023-12-25
公开(公告)号
:
CN118248509A
公开(公告)日
:
2024-06-25
发明(设计)人
:
B·库克
P·克鲁特
申请人
:
ICT半导体集成电路测试有限公司
申请人地址
:
德国海姆斯特滕
IPC主分类号
:
H01J37/145
IPC分类号
:
H01J37/26
H01J37/28
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
侯颖媖;张鑫
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-06-25
公开
公开
2024-07-12
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/145申请日:20231225
共 50 条
[1]
带电粒子束装置、带电粒子束装置的控制方法
[P].
青木贤治
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青木贤治
;
斋藤勉
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斋藤勉
;
细谷幸太郎
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细谷幸太郎
;
中村光宏
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中村光宏
;
重藤训志
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重藤训志
.
中国专利
:CN105593966A
,2016-05-18
[2]
带电粒子束装置以及带电粒子束装置的调整方法
[P].
尾方智彦
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尾方智彦
;
长谷川正树
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长谷川正树
;
村越久弥
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村越久弥
;
小贯胜则
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小贯胜则
;
兼冈则幸
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兼冈则幸
.
中国专利
:CN108604522B
,2018-09-28
[3]
带电粒子束装置、以及用于操作带电粒子束装置的方法
[P].
本杰明·约翰·库克
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本杰明·约翰·库克
;
迪特尔·温克勒
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迪特尔·温克勒
.
中国专利
:CN110729163B
,2020-01-24
[4]
带电粒子束装置
[P].
清原正宽
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机构:
株式会社日立高新技术分析
株式会社日立高新技术分析
清原正宽
;
上本敦
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机构:
株式会社日立高新技术分析
株式会社日立高新技术分析
上本敦
.
日本专利
:CN113496859B
,2025-12-19
[5]
带电粒子束装置
[P].
村上雄大
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机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
村上雄大
;
根本佳和
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机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
根本佳和
.
日本专利
:CN111696842B
,2024-06-21
[6]
带电粒子束装置
[P].
铃木将人
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铃木将人
;
富松聪
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富松聪
;
佐藤诚
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佐藤诚
;
麻畑达也
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麻畑达也
.
中国专利
:CN110335800A
,2019-10-15
[7]
带电粒子束装置
[P].
富松聪
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富松聪
;
佐藤诚
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佐藤诚
;
上本敦
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上本敦
;
麻畑达也
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麻畑达也
.
中国专利
:CN105910855B
,2016-08-31
[8]
带电粒子束装置
[P].
榎本裕久
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榎本裕久
;
铃木渡
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铃木渡
;
小柳宗和
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小柳宗和
;
羽根田茂
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羽根田茂
;
菊池秀树
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菊池秀树
.
中国专利
:CN110494948A
,2019-11-22
[9]
带电粒子束装置
[P].
千叶宽幸
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千叶宽幸
;
陈伟健
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陈伟健
;
小松崎谅
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小松崎谅
;
佐藤博文
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佐藤博文
.
中国专利
:CN114341631A
,2022-04-12
[10]
带电粒子束装置
[P].
小松崎谅
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
小松崎谅
;
千叶宽幸
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
千叶宽幸
;
陈伟健
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
陈伟健
;
佐藤博文
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
佐藤博文
.
日本专利
:CN114270182B
,2024-10-18
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