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一种超高温分子束外延用蒸发源
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811645189.4
申请日
:
2018-12-29
公开(公告)号
:
CN109440187B
公开(公告)日
:
2024-09-17
发明(设计)人
:
谢斌平
刘鑫
张德雨
王帅
申请人
:
费勉仪器科技(上海)有限公司
申请人地址
:
201906 上海市宝山区顾村工业园区富联二路189号4幢
IPC主分类号
:
C30B25/02
IPC分类号
:
代理机构
:
南京瑞华腾知识产权代理事务所(普通合伙) 32368
代理人
:
邱欢欢
法律状态
:
授权
国省代码
:
黑龙江省 哈尔滨市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-09-17
授权
授权
共 50 条
[1]
一种新型超高温分子束外延用蒸发源
[P].
谢斌平
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谢斌平
;
刘鑫
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刘鑫
;
张德雨
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张德雨
;
王帅
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王帅
.
中国专利
:CN109440187A
,2019-03-08
[2]
一种新型超高温分子束外延用蒸发源
[P].
谢斌平
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谢斌平
;
刘鑫
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刘鑫
;
张德雨
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张德雨
;
王帅
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王帅
.
中国专利
:CN209493652U
,2019-10-15
[3]
一种分子束外延用蒸发源装置
[P].
李年强
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机构:
昆明理工大学
昆明理工大学
李年强
;
论文数:
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机构:
卢建臣
;
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机构:
蔡金明
.
中国专利
:CN222313379U
,2025-01-07
[4]
一种适用于分子束外延系统的超高温蒸发源装置
[P].
程厚义
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机构:
合肥致真精密设备有限公司
合肥致真精密设备有限公司
程厚义
;
汪建荣
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机构:
合肥致真精密设备有限公司
合肥致真精密设备有限公司
汪建荣
;
李玉婷
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机构:
合肥致真精密设备有限公司
合肥致真精密设备有限公司
李玉婷
.
中国专利
:CN223134547U
,2025-07-22
[5]
一种分子束外延用蒸发坩埚
[P].
卢灿忠
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卢灿忠
;
陈旭林
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陈旭林
;
张孝文
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张孝文
;
陶晓栋
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陶晓栋
.
中国专利
:CN216473577U
,2022-05-10
[6]
坩埚、蒸发源炉和分子束外延设备
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
张培宣
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
张培宣
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN221028778U
,2024-05-28
[7]
分子束外延用源炉以及分子束外延设备
[P].
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机构:
张亚宾
;
袁敏
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
袁敏
;
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机构:
王利
;
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机构:
魏伟
;
凌小伦
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
凌小伦
;
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机构:
张珽
.
中国专利
:CN221854738U
,2024-10-18
[8]
一种热裂解蒸发源及分子束外延设备
[P].
艾金虎
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机构:
埃频(上海)仪器科技有限公司
埃频(上海)仪器科技有限公司
艾金虎
.
中国专利
:CN221778028U
,2024-09-27
[9]
分子束整流机构、坩埚、蒸发源炉和分子束外延设备
[P].
楼厦
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
楼厦
;
薛聪
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
薛聪
;
倪健
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
倪健
.
中国专利
:CN117364232A
,2024-01-09
[10]
超高真空分子束外延蒸发装置
[P].
张海霞
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张海霞
;
傅明晟
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傅明晟
;
曾德丽
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曾德丽
;
及刚
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及刚
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中国专利
:CN204727990U
,2015-10-28
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