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一种热裂解蒸发源及分子束外延设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202420334357.2
申请日
:
2024-02-22
公开(公告)号
:
CN221778028U
公开(公告)日
:
2024-09-27
发明(设计)人
:
艾金虎
申请人
:
埃频(上海)仪器科技有限公司
申请人地址
:
201415 上海市奉贤区钜庭路998号1号楼
IPC主分类号
:
C30B25/14
IPC分类号
:
C30B25/16
代理机构
:
上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313
代理人
:
李镝的
法律状态
:
授权
国省代码
:
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-09-27
授权
授权
共 50 条
[1]
分子束整流机构、坩埚、蒸发源炉和分子束外延设备
[P].
楼厦
论文数:
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
楼厦
;
薛聪
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
薛聪
;
倪健
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
倪健
.
中国专利
:CN117364232A
,2024-01-09
[2]
坩埚、蒸发源炉和分子束外延设备
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
张培宣
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
张培宣
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN221028778U
,2024-05-28
[3]
一种分子束外延用蒸发源装置
[P].
李年强
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机构:
昆明理工大学
昆明理工大学
李年强
;
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机构:
卢建臣
;
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机构:
蔡金明
.
中国专利
:CN222313379U
,2025-01-07
[4]
一种新型超高温分子束外延用蒸发源
[P].
谢斌平
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谢斌平
;
刘鑫
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刘鑫
;
张德雨
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张德雨
;
王帅
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王帅
.
中国专利
:CN209493652U
,2019-10-15
[5]
一种分子束外延用蒸发坩埚
[P].
卢灿忠
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卢灿忠
;
陈旭林
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陈旭林
;
张孝文
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张孝文
;
陶晓栋
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陶晓栋
.
中国专利
:CN216473577U
,2022-05-10
[6]
一种超高温分子束外延用蒸发源
[P].
谢斌平
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机构:
费勉仪器科技(上海)有限公司
费勉仪器科技(上海)有限公司
谢斌平
;
刘鑫
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机构:
费勉仪器科技(上海)有限公司
费勉仪器科技(上海)有限公司
刘鑫
;
张德雨
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机构:
费勉仪器科技(上海)有限公司
费勉仪器科技(上海)有限公司
张德雨
;
王帅
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机构:
费勉仪器科技(上海)有限公司
费勉仪器科技(上海)有限公司
王帅
.
中国专利
:CN109440187B
,2024-09-17
[7]
一种分子束外延设备
[P].
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机构:
刘可为
;
陈星
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机构:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
陈星
;
申德振
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机构:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申德振
;
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机构:
杨佳霖
;
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机构:
程祯
;
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机构:
朱勇学
;
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机构:
李炳辉
.
中国专利
:CN120119325A
,2025-06-10
[8]
裂解源炉和分子束外延设备
[P].
董海云
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董海云
;
倪健
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倪健
;
薛聪
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薛聪
.
中国专利
:CN218321746U
,2023-01-17
[9]
分子束外延设备及分子束外延设备的控制方法
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
杨晓楠
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
杨晓楠
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN117403323A
,2024-01-16
[10]
一种新型超高温分子束外延用蒸发源
[P].
谢斌平
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谢斌平
;
刘鑫
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刘鑫
;
张德雨
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张德雨
;
王帅
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王帅
.
中国专利
:CN109440187A
,2019-03-08
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