坩埚、蒸发源炉和分子束外延设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202322669300.6

申请日：

2023-10-07

公开(公告)号：

CN221028778U

公开(公告)日：

2024-05-28

发明(设计)人：

彭长四周均铭张培宣倪健

申请人：

埃特曼（厦门）光电科技有限公司

申请人地址：

361000 福建省厦门市集美区后溪镇金岭北路159-7号102室

IPC主分类号：

C30B23/06

IPC分类号：

C23C14/26

代理机构：

苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32502

代理人：

李洋;李丹

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-28	授权	授权

共 50 条

[1]

分子束整流机构、坩埚、蒸发源炉和分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

薛聪 ;

倪健 .

中国专利 :CN117364232A ,2024-01-09

[2]

集成式分子束外延坩埚制作方法、外延坩埚及分子束源炉 [P].

黄星星 ;

吴进 ;

毕诗博 ;

侯少毅 ;

胡强 .

中国专利 :CN115637490A ,2023-01-24

[3]

集成式分子束外延坩埚制作方法、外延坩埚及分子束源炉 [P].

黄星星 ;

吴进 ;

毕诗博 ;

侯少毅 ;

胡强 .

中国专利 :CN115637490B ,2024-11-12

[4]

一种分子束外延用蒸发源装置 [P].

李年强 ;

卢建臣 ;

蔡金明 .

中国专利 :CN222313379U ,2025-01-07

[5]

一种热裂解蒸发源及分子束外延设备 [P].

艾金虎 .

中国专利 :CN221778028U ,2024-09-27

[6]

一种分子束外延用蒸发坩埚 [P].

卢灿忠 ;

陈旭林 ;

张孝文 ;

陶晓栋 .

中国专利 :CN216473577U ,2022-05-10

[7]

分子束外延设备的源炉及分子束外延设备 [P].

彭长四 ;

周均铭 ;

倪健 .

中国专利 :CN220867575U ,2024-04-30

[8]

分子束外延设备的源炉及分子束外延设备 [P].

彭长四 ;

周均铭 ;

倪健 .

中国专利 :CN220788877U ,2024-04-16

[9]

分子束外延用源炉以及分子束外延设备 [P].

张亚宾 ;

袁敏 ;

王利 ;

魏伟 ;

凌小伦 ;

张珽 .

中国专利 :CN221854738U ,2024-10-18

[10]

裂解源炉和分子束外延设备 [P].

董海云 ;

倪健 ;

薛聪 .

中国专利 :CN218321746U ,2023-01-17

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