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用于处理基板的设备和用于处理基板的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310781239.6
申请日
:
2023-06-28
公开(公告)号
:
CN118276410A
公开(公告)日
:
2024-07-02
发明(设计)人
:
龙秀彬
朴珉贞
申请人
:
细美事有限公司
申请人地址
:
韩国忠清南道
IPC主分类号
:
G03F7/16
IPC分类号
:
H01L21/67
代理机构
:
北京市中伦律师事务所 11410
代理人
:
钟锦舜;张玫
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-07-02
公开
公开
2025-10-28
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/16申请日:20230628
共 50 条
[1]
用于处理基板的设备和用于处理基板的方法
[P].
金东勋
论文数:
0
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0
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0
金东勋
;
朴玩哉
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0
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朴玩哉
;
李城吉
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李城吉
;
李知桓
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李知桓
;
严永堤
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严永堤
;
吴东燮
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吴东燮
;
卢明燮
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0
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卢明燮
.
中国专利
:CN113410162A
,2021-09-17
[2]
用于处理基板的设备和用于处理基板的方法
[P].
姜虎信
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0
姜虎信
;
徐泰雄
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0
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徐泰雄
;
赵诚敏
论文数:
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0
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0
赵诚敏
.
中国专利
:CN114429899A
,2022-05-03
[3]
用于处理基板的设备和用于处理基板的方法
[P].
金东勋
论文数:
0
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0
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金东勋
;
朴玩哉
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
朴玩哉
;
李城吉
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李城吉
;
李知桓
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李知桓
;
严永堤
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
严永堤
;
吴东燮
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
吴东燮
;
卢明燮
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
卢明燮
.
韩国专利
:CN113410162B
,2024-11-15
[4]
基板处理设备和用于基板处理设备的方法
[P].
崔炳斗
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0
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崔炳斗
;
崔晋镐
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崔晋镐
.
中国专利
:CN114695196A
,2022-07-01
[5]
基板处理设备、用于处理基板的方法和基板处理系统
[P].
金一焕
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金一焕
;
裵相泫
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裵相泫
;
李赫宰
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李赫宰
;
赵泰济
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赵泰济
;
崔光喆
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0
引用数:
0
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0
崔光喆
.
中国专利
:CN106067430A
,2016-11-02
[6]
基板处理设备和用于基板处理设备的控制方法
[P].
津贺尾圭祐
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0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
津贺尾圭祐
;
泷本雄二
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
泷本雄二
.
日本专利
:CN117855087A
,2024-04-09
[7]
用于处理基板的设备及用于处理基板的方法
[P].
刘光星
论文数:
0
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0
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机构:
PSK有限公司
PSK有限公司
刘光星
;
李锺澯
论文数:
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0
机构:
PSK有限公司
PSK有限公司
李锺澯
.
韩国专利
:CN117672800A
,2024-03-08
[8]
用于处理基板的设备及用于处理基板的方法
[P].
刘光星
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0
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机构:
PSK有限公司
PSK有限公司
刘光星
;
李锺澯
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机构:
PSK有限公司
PSK有限公司
李锺澯
;
姜泰薰
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0
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机构:
PSK有限公司
PSK有限公司
姜泰薰
.
韩国专利
:CN117672798A
,2024-03-08
[9]
用于处理基板的设备和方法
[P].
梁日光
论文数:
0
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梁日光
.
中国专利
:CN101952939A
,2011-01-19
[10]
用于处理基板的设备和方法
[P].
林义相
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
林义相
;
李龙熙
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李龙熙
.
韩国专利
:CN114695190B
,2025-12-05
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