基板处理设备和用于基板处理设备的方法

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申请号
CN202111651003.8
申请日
2021-12-30
公开(公告)号
CN114695196A
公开(公告)日
2022-07-01
发明(设计)人
崔炳斗 崔晋镐
申请人
申请人地址
韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
H01L21677
代理机构
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人
张凯
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理设备和用于基板处理设备的控制方法 [P]. 
津贺尾圭祐 ;
泷本雄二 .
日本专利 :CN117855087A ,2024-04-09
[2]
用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P]. 
金东勋 ;
朴玩哉 ;
李城吉 ;
李知桓 ;
严永堤 ;
吴东燮 ;
卢明燮 .
中国专利 :CN113410162A ,2021-09-17
[3]
用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P]. 
姜虎信 ;
徐泰雄 ;
赵诚敏 .
中国专利 :CN114429899A ,2022-05-03
[4]
用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P]. 
龙秀彬 ;
朴珉贞 .
韩国专利 :CN118276410A ,2024-07-02
[5]
用于处理基板的设备和用于处理基板的方法 [P]. 
金东勋 ;
朴玩哉 ;
李城吉 ;
李知桓 ;
严永堤 ;
吴东燮 ;
卢明燮 .
韩国专利 :CN113410162B ,2024-11-15
[6]
基板处理设备、用于处理基板的方法和基板处理系统 [P]. 
金一焕 ;
裵相泫 ;
李赫宰 ;
赵泰济 ;
崔光喆 .
中国专利 :CN106067430A ,2016-11-02
[7]
基板处理设备和处理基板的方法 [P]. 
丹治彦 ;
赛门·贾帕连 ;
艾藢许·阿修可·巴瓦尼 ;
林睦凯 .
日本专利 :CN120019009A ,2025-05-16
[8]
基板处理设备和基板处理方法 [P]. 
金光烈 ;
金润相 ;
洪镇熙 .
韩国专利 :CN117352420A ,2024-01-05
[9]
基板处理设备和基板处理方法 [P]. 
丁星赫 ;
张容硕 .
韩国专利 :CN118263160A ,2024-06-28
[10]
基板处理设备和基板处理方法 [P]. 
林成珉 .
中国专利 :CN114639617A ,2022-06-17