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BCD工艺集成齐纳二极管的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410371263.7
申请日：
2024-03-29
公开(公告)号：
CN118248634A
公开(公告)日：
2024-06-25
发明(设计)人：
何兴月
张晗
金锋
申请人：
上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请人地址：
201203 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区祖冲之路1399号
IPC主分类号：
H01L21/8249
IPC分类号：
H01L27/06
代理机构：
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人：
刘昌荣
法律状态：
公开
国省代码：
上海市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-06-25 | 公开 | 公开 |
| 2024-07-12 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/8249申请日:20240329 |